Contents
半導体や精密装置分野では、プロセスの高度化に伴い、装置内部の温度制御が重要な設計要素となっています。 静電チャック（ESC）においても、吸着性能に加え、温度の均一性や安定性がプロセス品質に直結します。NISSHAのポリイミドヒーターは、ESC用途に最適化された薄型・高精度加熱ソリューションです。
最薄約0.1mmクラスのフィルム状構造を構築できます。装置の薄型化や軽量化が求められる最先端機器に最適です。
熱容量が小さく、立ち上がりが非常に速いメリットがあります。リアルタイム性が重要な温度制御に強みを発揮します。
金属膜をエッチングで回路形成するため、複雑な形状のワークにもフィットし、均熱・局所加熱にも対応可能です。
エッチング加工をベースとした構造により、大量生産に適した高い再現性と安定した品質を確保できます。
静電チャック用ヒーターには、一般的な規格品では対応が難しい要求があります。
装置仕様ごとに条件が異なるため、ヒーターを装置設計の一部として最適化する視点が求められます。
ヒーターは目立たない部品ですが、装置性能を左右する重要な要素です。 規格品では対応が難しい場合、設計段階から検討できるカスタムヒーターが有効な選択肢となることがあります。
NISSHAでは、静電チャック用途を含むポリイミドヒーターについて、カスタム設計を前提とした製造を行っています。 お客さまから頂いたパターン設計を元にフィルム加工・端子構造までを一体で検討し、装置仕様に応じた最適化が可能です。
特に細線パターニング技術を強みとしているため、均一な温度分布や実装性を考慮したヒーターの製造が実現可能です。 以下にNISSHAのポリイミドヒーターについてご紹介します。
当社が培ってきたパターニング技術により、高精細回路パターンの形成（ファインピッチ）が可能です。
・発熱パターンを細密に制御することで温度ムラを低減 ・微小領域の局所加熱にも対応 ・電力密度を高精度に制御可能 ・微細治具、分析装置、精密プロセス装置に最適
NISSHAのポリイミドヒーターは、高精細パターニング技術により、温度プロファイルの再現性および面内温度均一性を実現します。
形状・サイズ・パターン・仕様のすべてをフルカスタム設計可能。
・任意形状（丸・角・異形） ・曲面追従や微細形状にも対応 ・局所加熱／均熱加熱の両方を自由に設計 ・電力密度・抵抗値の最適化も自在
薄型・柔軟構造とパターニング技術により、他方式では実現が難しい「細部まで最適化された温度制御」を可能にします。
半導体プロセスで主流となる 300mm〜450mmクラスの大型ウエハ向けに、 大面積ポリイミドヒーターを一体構造で提供できます。
・φ450mm（18インチ）をカバーする大判フィルム製造が可能 ・面積ムラを抑えた均一パターン形成 ・大型静電チャック（ESC）との統合にも適合
大型ESCやFPD（フラットパネル）分野にも展開可能で、大面積化ニーズに対応できる数少ないPIヒータープロバイダーです。
静電チャック向けヒーター設計のご相談、仕様検討・量産可否の確認など、お気軽にお問い合わせください。
お問い合わせ
フィルムディバイス開発や量産におけるご相談はお気軽にご連絡ください
